有了华为改变行业的韬定律 我国还要自研EUV光刻机吗:院士给答案

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6月3日消息,近期华为提出的韬定律在全网刷屏,在各界都在热议这场半导体赛道范式革命的节点,我国半导体物理界权威、被业内称作红外物理“活化石”的褚君浩院士在受访时公开表态,摩尔定律早已经摸到了发展天花板,韬定律给全球半导体产业开拓出了一条全新的发展思路。

在韬定律的技术路径指引下,过去传统依靠几何缩微技术要花三年迭代才能达到的性能提升幅度,华为只靠一代逻辑折叠技术就完成了全部目标。

从目前公开的实测数据推算,华为靠这套新路径,仅用一年时间就把晶体管密度提升了53.5%,芯片特征尺寸对应的平面面积缩小12.7%,芯片的主频可以达到4GHz到5GHz,运算延迟低至零点几纳秒,性能表现已经达到非常高的水准,足以证明这条全新技术路线的实际效果。

当然韬定律未来能不能像沿用数十年的摩尔定律那样,成为全行业公认的通用发展准则,还需要足够长的产业落地时间和全行业的实践来印证。

目前积累的相关落地数据还不够充分,未来随着更多半导体企业跟进实践、落地相关技术,用海量实测数据支撑绘制出完整的行业趋势曲线,才能最终提炼出适配新路径的产业发展规律。

当被记者问及既然已经有了华为改变行业规则的韬定律,中国是否还需要继续投入资源发展EUV光刻机时,褚君浩给出了非常明确的答案,掌握自研EUV技术本身就是在给国内半导体产业筑牢根基,再叠加韬定律的全新路径,最终会形成了不起的1+1大于2的叠加效应。

这不止是单一维度的技术跃迁,更是一次底层范式创新,甚至能让中国科学重新定义全球半导体产业的发展可能性。

目前国内半导体产业的整体结构已经发展得非常完整,核心环节的对外依存度正在持续降低,上下游本土产业链的协同联动也已经形成了不错的基础。

未来随着相关科学技术的快速迭代,全球半导体产业的最优发展形态,本就应该是不同国家、不同企业各自发挥自己最擅长的技术优势,同时搭建起顺畅的合作互通架构,共同推进全产业向前发展。